北美市场本来就不是南山设备的主要市场，现在没有办法直接进去，也没有太大的损失。

反倒是因为这事，让原本一些没有关注南山设备的国家和企业，开始拿着放大镜跟着研究了起来。

这一研究就不得了了。

原来南山设备可以生产那么多种类的机床和设备啊。

好多在国际市场上买不到，或者说是需要高价才能买到的，居然都可以在南山设备那边买到同等水平，甚至性能更好的产品。

那还不赶紧下订单？

所以潘金兴才会发现自己手中等待交付的订单居然比以前更多了。

并且这个趋势还变得更加明显了。

“北极熊、波斯、北高丽等市场的虽然没有办法跟美利坚和欧洲市场相比，但是只要彻底的开发出来，其实也是不容小觑的。”

“那些发达国家的市场，我们原本想要拿下就很困难，今后就重点放在北极熊等其他国家，以及华夏国内的客户上面吧。”

曹阳对此倒也想得通。

当然了，要是一些企业见到有利可图，要转手把自己从南山设备购买的设备卖到美利坚等地，那就是另外一个话题了。

“嗯，我也是这么认为的。”

“特别是波斯等国，他们的工业化需求其实也是挺大的，但是也买不起特别贵的机床。”

“我们的产品有价格优势，还有技术优势，没有理由在这些市场竞争不过其他的厂家。”

潘金兴现在也是信心满满。

这次的事，无形之中也算是给他们做了一个选择。 今后的市场拓展方向在哪里，基本上已经明确下来了。

这个局面，让一些关注南山设备的人，也算是松了一口气。

“曹总，我们的蚀刻机短时间内要出口估计也比较困难。”

“不过我想到了一个突围的办法。”

尹志强是属于那种对手越强大，就越有干劲的技术狂人。

眼下芯片设备联盟面对的敌人，显然是异常强大的。

“什么想法？”

曹阳倒是很想知道尹志强这个技术专家能够给出什么好的提议。

“只要我们把蚀刻机的技术做到世界最先进，还把成本做到行业最低，那么其他的芯片厂家就会被动的找我们去购买产品。”

“要不然他们就没有办法使用最先进的蚀刻机，更加没有办法享受到更低的成本。”

尹志强的这个说法，把曹阳给说愣了。

还能这样子破局？

不过听起来好像也不是一点道理都没有啊。

你不买我的设备，没关系，南山半导体买就行。

然后借着这个机会我把我的设备的技术水平干到世界最强。

比如蚀刻机，现在主流的只需要能够完成28纳米的工艺就行了。

我直接把7纳米，甚至5纳米、3纳米的加工工艺给干出来了。

然后成本还只有你能够加工28纳米的蚀刻机的一半！

这个时候你买不买？

不买？

那指不定别人就反超你咯！

买？

那这个僵局不就是自然而然的打破了？

“尹总，你的这个方向完全是可行的！”

“我们南山设备下一步除了推进28纳米工艺的成熟度之外，就是研发14纳米的生产工艺设备。”

“如果蚀刻机能够进一步的做到比14纳米更加先进，那么就算是初步完成了你说的目标。”

成本方面，曹阳没有说任何内容。

因为只要华夏厂家能够生产的设备，成本肯定是比国际设备巨头要便宜一大截的。

现在购买一台蚀刻机要5000万的话，那么中微半导体肯定是2500万可以搞定的。

“28纳米的蚀刻机，我们现在就已经研发出来了，最晚在今年内就具备量产的水平，明年上半年就可以正式的交付给南山半导体使用。”

“与此同时，我准备跳过14纳米的蚀刻机技术，直接研发7纳米的蚀刻机。”

“到时候我们的蚀刻机在今后十年内都不会过时，只需要进行一些技术升级和降成本的活动就行了。”

尹志强对蚀刻机的发展显然是非常有信心的。

“蚀刻机的生产难度虽然不是所有设备中最难的，但也是技术含量很高的，直接跳过14纳米的话，会不会太有挑战性了？”

曹阳虽然希望尹志强能够轻松的完成自己说的方案。

不过还是忍不住多关心了几句。

“曹总，要理解这个方案的可能性，就要涉及到蚀刻技术的工作原理了。”

“我先跟你好好唠叨一下。”

尹志强显然是准备展现一下自己的专业水平，让曹阳相信中微半导体可以搞定更加先进的蚀刻机。

“刻蚀技术可以分为两类，一是使用液态化学品的湿法刻蚀，让硅片在强酸强碱的泡澡淋浴中定量减肥。”

“二是使用气体等离子体的干法刻蚀，让硅片在化学气体的离子轰击下局部瘦身。”

“其中湿法刻蚀的技能早就被人类点亮，比如中世纪的欧洲人，会用酸性溶液，在金属盔甲上蚀刻雕花。”

“明代的《格古要论》中也有记载：凡刀剑器，打磨光净，用金丝矾矾之，其花纹则见。”

“明朝人说的金丝矾就是一种硫酸盐，因此当历史进入集成电路的时代，工程师们首先想到的也是利用各种酸碱的腐蚀性，来大规模地刻出芯片，制程工艺中的刻蚀之名，由此产生。”

“刻蚀中有三个关键指标：刻蚀速率，选择比和方向性。”

“其中刻蚀速率指的是物质被溶解的速度，通常用每分钟损失多少微米的厚度来计量。”

“在芯片制程中，一个部位的刻蚀深度，通常是用刻蚀时长来控制的，因此保证一个精确且恒定的刻蚀速率非常重要，而这对于刻蚀液的纯度，配比，和浓度变化的要求很高。”

“基于化学反应的湿法刻蚀，只能尽量减少横向刻蚀，完全的各向异性它做不到。”

“在芯片制程的早期，器件结构比较粗糙，线宽间距也够大，刻蚀方向性差一点，问题还不大。”

“但随着制程进入次微米级，湿法刻蚀就跟不上芯片的精度要求了，逻辑电路自然不用说，关键层需要纳米级的精密刻蚀，即便像DRAM之类相对粗糙的存储芯片，要刻出里面又窄又深的电容沟槽，也需要方向感极强的雕刻方法，这就是干法刻蚀。”

“湿法用的是液体，干法用的则是气体，芯片厂每天消耗很多特种气体，其中很大一部分就用于刻蚀。”

“这些气体在精确配比后，被通入反应腔内，再用电容或电感耦合的方式，让气体完全或部分电离，形成等离子体或离子束，经过电场加速，射向硅片进行刻蚀，这是一种兼具物理与化学属性的雕刻方式。”

“主流的芯片制程中，超过90%的芯片刻蚀都是干法，因为它的方向性好，气体配比和射频电源也能实现更精密的调控。”

“至于缺点，抛开技术的复杂度不谈，主要有两个，一个是贵，一个是慢。”

“一台进口刻蚀机的价格，数百万美元，那比光刻机是便宜多了，但是不同介质的刻蚀，需要买不同的刻蚀机。”

“而且工艺中，刻蚀的时长远超光刻，毕竟人家是用光来刻嘛。”

“因此产线上一台光刻机，要配多台刻蚀机，按照设备总成本来计算，两者的开销差不多。”

“相比光刻机对光线的精确控制，蚀刻机更多的是需要对气体进行精确控制，两者的精度要求虽然差不多，但是生产难度却是完全不同的。”

“光刻机里头，光学系统的加工难度是非常高的，特别是里面的镜片，国内还真是很难找到符合要求的厂家。”

“你找蔡司购买的话，人家不一定会卖给你跟阿斯麦一个水平的产品。”

“但是蚀刻机的话，我们不需要这么复杂的东西，只要设备设计的足够精妙，零件的加工精度可以符合要求，就有希望生产出能够加工7纳米的蚀刻机出来。”

尹志强解释了一大顿，曹阳听懂了一部分。

不过他不担心！

原本没有南山集团帮忙，中微半导体都能很快的突破各种蚀刻机技术，最终5纳米的蚀刻机还成功的供应给了台积电等厂家。